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溅射靶材

  • 铌靶
铌靶

铌靶

  • 牌号:Nb1、Nb2
  • 纯度:≥99.95%
  • 规格:根据客户图纸及要求定制
  • 产品描述:为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
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靶材应用:

溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

众昌金属可为用户专业生产加工各种规格溅射靶材,纯度高、均匀致密,具有优良导热性,从而保证靶材的高效率和高利用率。

靶材分类:

根据形状可分为:方靶、圆靶、异型靶

靶材的主要性能要求

纯度

纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”、8“发展到12”,而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。


我公司钨钼制品具有熔点高、强度大、寿命长、耐高温性能好等特点,广泛应用于热场、真空镀膜、太阳能、蓝宝石晶体、光电子、半导体、特种陶瓷、光源照明、机械部件、玻璃制造、玻璃纤维,耐火纤维,稀土冶金、工业窑炉等诸多领域。

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